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四川大学傅强&邓华Compos. Part A Appl. Sci. Manuf.:TiO2@MWCNTs/PVDF复合材料的制备及其介电性能研究
2021/8/16 14:36:12 admin

DOI: 10.1016/j.compositesa.2021.106493

 

薄膜电容器可作为能量储存装置,用于快速储存和释放能量,但能量密度低限制了其实际应用。之前的研究已经证明了PVDF中少量的2D二氧化钛(TiO2)纳米带可以显着提高这些复合薄膜的能量密度。为了提高这些复合材料的介电常数和能量密度,将多壁碳纳米管(MWCNTs)引入静电纺丝制备的2D TiO2纳米带中,并沿这些2D纳米带呈平行取向。由绝缘二氧化钛形成的外壳可以避免导电网络的形成,从而实现较高的极化效率。结果表明,当复合填料中MWCNTs与TiO2的比例为1:30时,填料的击穿电压可达478kV/mm,极化率为8.34μC/cm2,与纯PVDF相比,能量密度由2.87J/cm3提高至17.97J/cm3。

 

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图1.(a)TiO2@MWCNTs/PVDF复合材料的制备示意图。主要分为纺丝溶液的制备、静电纺丝、高温煅烧、溶液成膜四个步骤。(b)MWCNTs不同浓度条件下的静电纺丝溶液图片,其中MWCNTs与最终二氧化钛的比例为1:2、1:5、1:10、1:20、1:30、1:40、1:60,(从左到右排序)。


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图2.静电纺丝TBTO/PVP复合材料的SEM图像,其中MWCNTs与TiO2的比例为(a)1:5,(b)1:10,(c)1:20,(d)1:30,(e)1:40,(f)1:60,(g)二维纺丝PVP的TEM图像,(h)二维纺丝1:60-TBTO@MWCNTs/PVP的TEM图像。


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图3.(a)前驱体(PVP-MWCNT-TiO2)和TiO2@MWCNT复合填料在不同温度下煅烧的光学图像,煅烧温度分别为520℃、435℃、350℃;(b)电纺丝产物的TGA图;(c)这些填料在不同温度下煅烧的XRD衍射图。


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图4.TiO2@MWCNT-TDNB二维复合填料的SEM图:(a)1:5,(b)1:10,(c)1:20,(d)1:30,(e)1:40,(f)1:60。


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图5.静电纺丝横截面示意图。


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图6.不同MWCNTs浓度的TiO2@MWCNTs在435℃下煅烧2h的横截面SEM图像:(a)1:5,(b)1:10,(c)1:20,(d)1:30,(e)1:40,(f)1:60。


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图7.(a)TiO2@MWCNTs-TDNBs复合纳米填料煅烧后的厚度统计。(b)不同MWCNT含量下TiO2-TDNBs@MWCNTs复合填料的XRD。


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图8.(a)不同MWCNTs含量的TiO2@MWCNT-PVDF复合材料的介电常数。(b)不同MWCNTs含量的TiO2@MWCNT-PVDF复合材料的介电损耗。


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图9.TiO2@MWCNT/PVDF复合材料的击穿电压分布。


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图10.TiO2@MWCNT-TDNB/PVDF复合材料击穿过程的示意图:(a)原始裂纹击穿起点;(b)单层表面上击穿裂纹的生长过程;(c)生长路径示意图。


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图11.(a)含不同填料的复合材料的磁滞回线以及(b)充放电能量密度和充放电效率统计。


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图12.TiO2@MWCNT-TDNB复合材料在电场作用下的微观极化现象示意图:(a)同一纳米片中MWCNTs之间的自由电子运动示意图;(b)二维TiO2-TDNBs@MWCNTs纳米片之间的极化;(c)PVDF内部微观极化的示意图。(d)外场电子示意图。


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图13.30:1-TiO2@MWCNTs/PVDF复合材料(a)不同电压下的磁滞回线以及(b)储能密度和充放电效率图。


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